측정 공정 평가(EMP 교차)의 분산 성분에 대한 방법 및 공식

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이 항목의 내용

분산 분석 방법의 분산 성분
Xbar 및 R 방법에 대한 분산 성분

분산 분석 방법의 분산 성분

표의 분산 성분은 부품*측정 시스템 교호작용에 대한 p-값이 분석의 유의 수준보다 작은지 여부에 따라 달라집니다. 기본적으로 유의 수준은 0.05입니다. 유의 수준을 변경하려면 을 선택한 파일 > 옵션 > 관리도 및 품질 도구 > Gage R&R 연구다음 의 교호작용 항을 제거하기 위한 알파값을 변경합니다.

테스트-재테스트 오류(반복성)

반복성 = MS_반복성

측정 시스템(재현성)

성분 계산에는 교호작용이 통계적으로 유의할 때 부품*연산자 교호작용이 포함됩니다. 교호작용의 경우 분석은 다음 공식을 사용합니다.

교호작용이 없으면 분석에서는 다음 공식을 사용합니다.

용어	설명
a	부품 수
n	반복실험 횟수

부품*측정 시스템(재현성)

용어	설명
n	반복실험 횟수

부품(제품 변형)

성분 계산에는 교호작용이 통계적으로 유의할 때 부품*연산자 교호작용이 포함됩니다. 교호작용의 경우 분석은 다음 공식을 사용합니다.

교호작용이 없으면 분석에서는 다음 공식을 사용합니다.

용어	설명
b	측정 시스템 수
n	반복실험 횟수

총계

분석에 교호작용이 포함되면 재현성에 대한 분산 성분에는 측정 시스템에 대한 분산 성분과 교호작용에 대한 분산 성분이 포함됩니다. 분석에 교호작용이 포함되지 않은 경우 재현성에 대한 분산 성분은 측정 시스템에 대한 분산 성분입니다.

총 변동 = VarComp_반복성 + VarComp_재현성 + VarComp_{제품 변동}

Xbar 및 R 방법에 대한 분산 성분

분산은 표준 편차의 제곱입니다.

테스트-재테스트 오류(반복성)

장비 변동, 표준 편차는 다음과 같이 계산됩니다.

용어	설명
a	부품 수
k	측정 시스템 수
R_ij	측정 시스템 j의 부품 i에 대한 측정값 범위
d₂	d 2 = d₂, 부록 C ¹. 이 값을 찾는 경우 g = (부품 수) (측정 시스템 수) 및 m = (반복실험 횟수)를 사용하십시오.

측정 시스템(재현성)

측정 시스템 변동, 표준 편차는 다음과 같이 계산됩니다.

용어	설명
	측정 시스템 i의 평균 측정값
a	부품 수
k	측정 시스템 수
n	한 명의 작업자가 부품에 대해 반복한 측정 횟수
d₂	부록 C¹의 d₂ = d₂ *. 이 값을 찾는 경우 g = 1 및 m = (측정 시스템 수)를 사용하십시오.

부품(제품 변형)

표준 편차는 다음과 같이 계산됩니다.

용어	설명
R_p	부품 평균값의 범위,
d₂	부록 C¹의 d₂ = d₂ *. 이 값을 찾는 경우 g = 1 및 m = (부품 수)를 사용하십시오.
n	한 명의 작업자가 부품에 대해 반복한 측정 횟수
k	측정 시스템 수
a	부품 수

총 Gage R&R

표준 편차는 다음과 같이 계산됩니다.

총 변동

표준 편차는 다음과 같이 계산됩니다.

¹ AIAG(Automotive Industry Action Group)(2010). Measurement Systems Analysis Reference Manual, 4th edition. Chrysler, Ford, General Motors Supplier Quality Requirements Task Force