하위 분지를 사용하는 특성요인도의 예

한 제조 공장의 엔지니어들이 표면 흠집 때문에 부품들이 가장 많이 불합격된다는 사실을 발견했습니다. 엔지니어들은 여러 부서의 직원들과 만나 표면 흠집이 발생하는 잠재적 원인에 대해 의견을 나눕니다.

엔지니어들이 팀에서 식별한 원인을 정리하기 위해 특성요인도를 생성합니다.

  1. 표본 데이터표면흠집.MTW을 엽니다.
  2. 통계분석 > 품질 도구 > 특성요인도을 선택합니다.
  3. 원인(분지 1) 아래 드롭다운 메뉴에서 을 선택합니다.
  4. 원인(분지 1) 아래 비어 있는 필드에 사람을 입력합니다.
  5. 다음 5개 분지에 대해 3, 4단계를 반복합니다. 분지 2-6에 기계, 재료, 방법, 측정환경을 입력합니다.
  6. 하위(분지 1)을 클릭합니다. 원인(하위 분지 3) 아래 드롭다운 메뉴에서 을 선택합니다.
  7. 원인(하위 분지 3) 아래 비어 있는 필드에 교육을 입력합니다. 확인을 클릭합니다.
  8. 하위(분지 2)을 클릭합니다. 원인(하위 분지 4) 아래 드롭다운 메뉴에서 을 선택합니다.
  9. 원인(하위 분지 4) 아래 비어 있는 필드에 속도을 입력합니다. 확인을 클릭합니다.
  10. 하위(분지 5)을 클릭합니다. 원인(하위 분지 1) 아래 드롭다운 메뉴에서 을 선택합니다.
  11. 원인(하위 분지 1) 아래 비어 있는 필드에 마이크로미터을 입력합니다. 확인을 클릭합니다.
  12. 효과표면 흠집을 입력합니다.
  13. 확인을 클릭합니다.

결과 해석

팀은 표면 흠집의 다양한 원인(효과 또는 종속 변수)을 식별합니다. 분지 위의 작은 분지(예: 환경 아래의 응축 및 수분 백분율)는 효과에 기여할 수 있는 원인입니다. 하위 분지는 각 원인에 대한 세부사항을 제공합니다. 예를 들어, 팀은 표면 흠집의 문제에 대한 해결 방법을 찾기 위해 교사와 테스트 과정을 조사할 수 있습니다.

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